虽光刻机试制成功，但马由暂时不准备公开这个信息，还再度对所有知情者提出严格保密的要求，让决不能透露光刻机的任何信息。

他计划在秋季新品发布会上，和其他产品一并发布。这样才更有轰动效应。同时，这半年时间，可以将蓉城、弘崆和德国晶圆工厂所需的设备全部完成、进行扩产。届时才考虑对外发布后，面对全球晶圆企业出售。

即使半年后要对外公开发售的光刻机，也会根据星儿监控到其他厂家研发进度，再对外公布相应稍微领先的规格，并制定相对便宜的价格。

前世他们的关键节点是于2002年，在林本坚的帮助下，成功研制出高端光刻机EUV，这才扶摇直上。

但今生他们只能和倭国的尼康、佳能等厂家竞争中低端光刻机。

而蓝星的光刻机从设计开始，就全方面的进行了技术革新。零部件整合设计，让10万级的零部件降低到1.5万，虽加大了设计和加工难度，但带来的好处却非常多，装配简易、精度高、运行更加平稳、易损度低、维护难度低、良品率高……等等。

还优化了磁悬浮驱动，改良了真空腔体的光学系统，同时在零部件上也有重大突破，例如核心零件反射镜来说，德国蔡司被誉为史无前例的完美无瑕，瑕疵大小可以达到以皮米计算，但蓝星光学生产的反光镜也能达到皮米级，而且价格极低，加之最后还由马由在私人实验室里最终调校，可以达到飞米级的瑕疵大小。

保留德国芯片厂的芯片加工厂，就是留下一个口子，规避他们在安全方面的忌惮，这样更容易加速其他芯片企业的淘汰速度。

IT是现阶段蓝星集团的拳头产业，已逐崭露头角。因而马由必须构建完整的产业链，否则某些环节就可能被卡脖子。这也是马由必须自研以光刻机为代表的芯片生产线里一些核心设备。

马由安排公司，将第一代光刻机的技术，打造全方位的专利壁垒。仅专利注册数量就达到了2000多项，其他半导体产业链中的专利则达到了3000多项。其中60%是该产业发展必须的正确轨迹，也有修正前世低效技术。另外则故意注册了40%半真半假的专利技术。这也是一种混淆视听的手段。一旦注册了专利，其他研究机构都可能受到这些技术的启发，他们就会想方设法绕开你的专利，发展另外一种类似的技术。

而国家级别的科研和国防、军工产品则不会理会所谓的专利。直接拿来使用还不用支付费用。所以很多极为核心的技术，马由也不会傻乎乎的为人做嫁妆。尤其是材料领域。

除了专利围剿外，马由的设立在米国和欧洲，专门从事全球华人人才引进的重点目标里，早已锁定了林本坚、梁孟松以及米国硅谷那些前世历史上，在芯片领域尤其是排名前10中6名芯片材料专家等有较大贡献的人才。

随着蓝星集团在全球IT领域逐渐进入顶级企业，这些人才相信也乐意进入蓝星芯片企业和蓝星研究院。

这样不仅截胡弯积电的人才、树立专利壁垒。同时也因在华国的生产成本优势，让阿斯麦尔没有了历史转折的可能。更关键是让米国逐渐失去半导体产业链的技术优势。

蓝星集团在蓉城成功研制光刻机的消息，虽保密程度极高，但还是遮挡不住国家有关部门的特别关注。能让马由亲自带队，驻扎在工厂2周时间，本就说明了这次研发的产品的重要性。现在有关部门对马由的行为研究已十分透彻。

只不过他们不清楚设备的具体信息。于是通过特殊渠道，联系上了马由，还是钟首长带队，希望来蓉城拜访。

马由虽然不清楚他们的来意，但隐约也猜到了什么。如此高级别的考察小组，自然是冲着蓝星集团重大成果而来。显而易见，蓝星集团最近的重大成果就只有光刻机了。

公司里面尤其是安保团队里面，有几个特殊人员，他早已暗自调查清楚。不过他从未想过去做任何对不起国家的事情，考虑再三，还是假装不知。与其辞退他们，未来也不知道什么机构会通过什么渠道再度塞人进来。还不如保留他们，反正他们时刻在星儿的监控之中，未来需要时，还可以通过他们传递一些想让有关部门知道的信息。